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洁净室中的温湿度控制

洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。而每小时换气次数与房间的体积有关，如吊顶的高低，因此不适合用来表示单向流。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产的湿度范围为35—45%。

赛达净化坚持秉承以科技为先导、以市场为导向的科学管理理念，凭借规范化管理及***的技术力量在食品、***、化妆品、微电子等诸多工业领域设计承建了洁净SC厂房、GMP厂房、无菌室、实验室及相关配套产品。我们的宗旨：***！诚信！***！

静电事故的产生主要在于静电的产生和积累，而气流的流动，气流和管道、风口、过滤器等摩擦，***和衣服的摩擦，衣服之间的摩擦，工艺上的研磨，喷涂、射流、洗涤、搅拌、粘合和剥离等操作，所有选些都可能产生静电，在一般情况下，越是电导率小的非导体（绝缘体），由于电荷产生后不易流动，因此表现为越容易带电。防静电洁净室中由于静电引起的的事故屡有发生，因此洁净室的防静电能力如何已成为评价其质量的一个不可忽视的方面。

各种净化厂房、无尘无菌室、净化实验室、GMP车间等的设计、安装、维修等。生产制造各种净化洁净设备：主要为电子、食品、航空航天、光学光电、半导体塑料、化工、包装、喷涂、化妆品、科研等行业，满足客户不同的净化级别。五、导电中涂层：待砂浆层固化后，将调好的导电中涂料用镘刀批刮在砂浆层上。净化原理 气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→净化风口→吹入房间→带走尘埃***等颗粒→回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，即可达到净化目的。

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环氧树脂防静电地板施工步骤